鼎龙股份获得发明专利授权：“一种颗粒物清除效率的快速评价方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示鼎龙股份（300054）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种颗粒物清除效率的快速评价方法”，专利申请号为CN201910720583.8，授权日为2025年6月3日。

专利摘要：本发明公开了一种颗粒物清除效率的快速评价方法，对半导体制造中化学机械抛光处理后的晶圆表面颗粒物的清除效率进行评价，包括：切割处理晶片得到晶片样品，进行沾染实验，获得待清洗的晶样；进行形貌分析，获得清洗前三维形貌图像；用清洗液进行清洗实验，得到清洗后的晶样；获得清洗后三维形貌图像；将得到的清洗前/后三维形貌图像分别在垂直方向上截取高度H处的横截面，对应得到晶片表面清洗前/后颗粒污染物状况的图像，对图像进行分析处理，得到清洗前/后颗粒污染物数量或面积，计算清洗效率，其中高度H大于晶片样品表面的平均粗糙度且小于颗粒污染物平均粒径的一半。本发明的评价方法能实现快速、低成本的清除效率的评价。

今年以来鼎龙股份新获得专利授权6个，较去年同期减少了25%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了4.62亿元，同比增21.62%。

数据来源：天眼查APP

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