天合光能获得实用新型专利授权：“平行靶磁控溅射设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示天合光能（688599）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“平行靶磁控溅射设备”，专利申请号为CN202422173338.9，授权日为2025年6月10日。

专利摘要：本申请提供一种平行靶磁控溅射设备，通过设置平行相对的阴极磁铁和阳极磁铁，使阴极磁铁和阳极磁铁之间形成电磁场空间，在磁控溅射中，由于垂直于靶材的方向的靶材粒子的溅射能量相对较高，其溅射到平行设置的另一块靶材上，不会对钙硅层叠电池造成损害，而非垂直方向的靶材粒子的溅射能量相对较低，在电磁场空间的约束作用下最终沉积到钙硅层叠电池，故可以使得磁控溅射所造成的损害降低。此外，该平行靶磁控溅射设备还包括冷却组件，可以使钙硅层叠电池的温度控制在一定范围，从而也可以减少高温对钙硅层叠电池的影响，进而能够提升钙硅层叠电池的品质。

今年以来天合光能新获得专利授权251个，较去年同期增加了22.44%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了18.46亿元，同比增19.62%。

数据来源：天眼查APP

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