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拉普拉斯获得实用新型专利授权:“下料组件和膜层制备装置”

来源:证券之星企业动态 2025-05-30 02:15:59
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证券之星消息,根据天眼查APP数据显示拉普拉斯(688726)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“下料组件和膜层制备装置”,专利申请号为CN202421932322.5,授权日为2025年5月30日。

专利摘要:本申请涉及半导体及光伏电池技术领域,尤其涉及一种下料组件和膜层制备装置,解决了产品表面的膜层容易被下料组件损伤的问题。下料组件,被配置为接收并运输产品,所述产品的下表面附着有膜层,所述产品的下表面具有相对的第一端和第二端;其中,所述下料组件包括:传动组件,被配置为承载所述产品的第一端和所述产品的第二端;驱动组件,与所述传动组件连接,被配置为驱动所述传动组件运动,以使所述传动组件接收并运输所述产品,避免了与产品的下表面的其他区域进行接触,降低了对产品的下表面的膜层的损伤。

今年以来拉普拉斯新获得专利授权82个。结合公司2024年年报财务数据,2024年公司在研发方面投入了2.96亿元,同比增27.5%。

数据来源:天眼查APP

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