拉普拉斯获得实用新型专利授权：“膜层制备装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拉普拉斯（688726）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“膜层制备装置”，专利申请号为CN202421937474.4，授权日为2025年5月30日。

专利摘要：本申请涉及半导体及光伏电池技术领域，尤其涉及一种膜层制备装置，以解决膜层制备装置成本高、材料利用率低、生产效率低的问题。膜层制备装置包括：至少一个工艺辊，沿第一方向延伸，设有沿第一方向延伸的附着面，工艺辊能够绕与第一方向平行的轴线转动，附着面被配置为与产品的第一表面接触；其中，附着面能够附着溶液，在工艺辊绕与第一方向平行的轴线转动的过程中，附着面与第一表面滚动接触，以使附着面附着的至少部分溶液能够附着至第一表面，实现了在产品的第一表面制备膜层。该膜层制备装置结构简单，成本低，便于维护。另外，该膜层制备装置通过工艺辊的转动即可实现在产品的第一表面制备膜层，可以实现连续生产，膜层制备的效率高。

今年以来拉普拉斯新获得专利授权82个。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了2.96亿元，同比增27.5%。

数据来源：天眼查APP

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