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拓荆科技获得发明专利授权：“用于提供等离子体的装置及半导体处理腔室”

来源：证券之星企业动态 2025-05-24 03:16:16

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证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拓荆科技（688072）新获得一项发明专利授权，专利名为“用于提供等离子体的装置及半导体处理腔室”，专利申请号为CN202211466874.7，授权日为2025年5月23日。

专利摘要：本申请涉及用于提供等离子体的装置及半导体处理腔室。本申请的一个方面提供了一种用于提供等离子体的装置，其包括：循环通道，其位于所述装置内部；一或多个进气口，其用于接收气体并将所述气体提供到所述循环通道中；一或多个出气口，其用于输出所述循环通道中的所述气体；以及射频电极，其附接到所述循环通道，且用于在所述循环通道内形成电场以使所述循环通道中的所述气体电离。

今年以来拓荆科技新获得专利授权16个，较去年同期增加了166.67%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了7.56亿元，同比增31.26%。

数据来源：天眼查APP

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