证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中船特气（688146）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种CVD工艺制备钨坩埚的沉积炉装置”，专利申请号为CN202421536109.2，授权日为2025年5月13日。
专利摘要：本申请涉及化学气相沉积技术领域，尤其涉及一种CVD工艺制备钨坩埚的沉积炉装置，包括沉积室、安装在所述沉积室的外壳上的进气口和出气口、安装在沉积室内壁上的旋转叶片和多孔布气板以及安装在沉积室底部的内筒体，所述沉积室的上方设置有混料室。因此，通过一种CVD工艺制备钨坩埚的沉积炉装置，解决分布板的分布效果有限，导致源气体在沉积室内分布不均，从而出现基体上钨沉积厚度不均匀的现象，导致源气体损耗过大，影响沉积效率和沉积品质的技术问题。
今年以来中船特气新获得专利授权17个，较去年同期增加了142.86%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了1.68亿元，同比增4.64%。
数据来源：天眼查APP
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