拉普拉斯获得实用新型专利授权：“一种腔体及沉积设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拉普拉斯（688726）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种腔体及沉积设备”，专利申请号为CN202421927332.X，授权日为2025年5月13日。

专利摘要：本申请的实施例提供了一种腔体及沉积设备，具体涉及光伏和半导体领域，解决了片状材料在沉积过程中因受热不均匀导致的镀膜厚度的均匀性差的问题。该腔体包括：多个加热板和加热件。多个加热板相邻设置围成中空空间，中空空间用于放置片状材料，多个加热板被配置为在沉积设备的沉积过程中对片状材料进行加热。加热件部分伸入中空空间，加热件沿竖直方向在相邻的加热板的连接位置的正投影，与相邻的加热板的连接位置至少部分重合。本申请实施例设置加热件，实现了在加热过程中对腔体的空间进行辅助加热的目的，并对温度较低的连接位置进行升温，从而能够实现对腔体内部的空间的温度调节和保证温度均匀性，保证了沉积过程中的片状材料的受热均匀性。

今年以来拉普拉斯新获得专利授权66个。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了2.96亿元，同比增27.5%。

数据来源：天眼查APP

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