奥比中光获得发明专利授权：“一种图像的校正方法及及屏下系统”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示奥比中光（688322）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种图像的校正方法及及屏下系统”，专利申请号为CN202110315005.3，授权日为2025年4月29日。

专利摘要：本申请适用于图像处理的技术领域，提供一种干涉条纹的校正方法及屏下系统，所述校正方法包括：获取不同拍摄距离的干涉条纹图像；获取待校正图像，并计算所述待校正图像中每个待校正像素点的深度值；在所述不同拍摄距离的干涉条纹图像中，选择所述每个待校正像素点的深度值对应的干涉条纹图像，作为所述每个待校正像素点对应的目标干涉条纹图像；提取所述目标干涉条纹图像中目标坐标位置的第一像素值；根据所述每个待校正像素点对应的第一像素值，校正所述每个待校正像素点的第二像素值，得到校正后的图像。上述方案，通过针对逐个待校正像素分别进行校正的方式，减弱了干涉条纹导致采集的图像质量较差的问题。

今年以来奥比中光新获得专利授权30个，较去年同期增加了20%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了2.04亿元，同比减32.07%。

数据来源：天眼查APP

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