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普利特获得发明专利授权:“一种低介电微孔薄膜及其制造方法”

来源:证券之星企业动态 2025-04-09 02:43:15
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证券之星消息,根据天眼查APP数据显示普利特(002324)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种低介电微孔薄膜及其制造方法”,专利申请号为CN202211725214.6,授权日为2025年4月8日。

专利摘要:本发明公开了一种低介电微孔薄膜及其制造方法,其包括以下步骤:1、将热塑性液晶聚合物通过挤出机熔融塑化,挤出成膜;2、将前一步得到的液晶聚合物薄膜与支撑体压合得到复合体;3、将前一步复合得到的液晶聚合物薄膜复合体加热到一定温度范围内,并保持一定时间;4、将经过热处理的液晶聚合物薄膜复合体中的支撑体分离,得到处理完成的液晶聚合物低介电微孔薄膜成品。使用本发明制备工艺得到的低介电微孔薄膜具有均匀分布的微孔,高频下介电损耗因子小。

今年以来普利特新获得专利授权4个,较去年同期减少了63.64%。结合公司2024年中报财务数据,2024上半年公司在研发方面投入了2.19亿元,同比增5.47%。

数据来源:天眼查APP

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