拉普拉斯获得实用新型专利授权：“喷气机构及反应装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拉普拉斯（688726）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“喷气机构及反应装置”，专利申请号为CN202421386573.8，授权日为2025年4月8日。

专利摘要：本申请提供一种喷气机构及反应装置，喷气机构用于对反应舱内的片状材料喷出第一前驱体和第二前驱体，使多个片状材料上形成原子膜，喷气机构包括：进气组件，进气组件上开设有第一进气口、第二进气口和第三进气口，第一进气口用于通入第一前驱体，第二进气口用于通入第二前驱体，第三进气口用于通入惰性气体；喷气座，喷气座连接于进气组件，喷气座上开设有多个第一喷气槽、多个第二喷气槽和多个第三喷气槽。如此，喷气机构在朝向片状材料的一侧可以同时喷射出多股第一前驱体、多股第二前驱体和多股惰性气体，使移动经过第一喷气槽、第二喷气槽和第三喷气槽的片状材料可以在一次移动实现多层原子膜的镀膜，可以提高对片状材料镀膜的效率。

今年以来拉普拉斯新获得专利授权51个。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了1.73亿元，同比增57.18%。

数据来源：天眼查APP

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