芯源微获得实用新型专利授权：“一种晶圆刻蚀设备的密封结构”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示芯源微（688037）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种晶圆刻蚀设备的密封结构”，专利申请号为CN202420780373.4，授权日为2025年4月8日。

专利摘要：本实用新型属于晶圆刻蚀设备技术领域，具体地说是一种晶圆刻蚀设备的密封结构，适用于晶圆刻蚀设备的电机防护罩与升降CUP，电机防护罩的外周边缘开设有密封圈安装槽，密封圈安装槽中镶嵌有密封圈，升降CUP的顶端开口处向靠近电机防护罩的内侧方向延伸有密封圈压接沿。本实用新型可使电机防护罩与降下的升降CUP相接形成阶梯式密封结构，可有效保证降下到最低位置的升降CUP与电机防护罩之间的密封效果，避免刻蚀工艺后期使用的药液流入升降CUP与电机防护罩之间的间隙，能够充分顺着降下的升降CUP的外侧面经由位于升降CUP的外侧的流路流走并被回收，且可避免在电机防护罩与降下的升降CUP之间造成存液，有效提高药液回收效果。

今年以来芯源微新获得专利授权17个，较去年同期增加了88.89%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了1.17亿元，同比增52%。

数据来源：天眼查APP

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