捷佳伟创获得实用新型专利授权：“一种RPD镀膜设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示捷佳伟创（300724）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种RPD镀膜设备”，专利申请号为CN202420444056.5，授权日为2025年4月1日。

专利摘要：本实用新型公开了一种RPD镀膜设备，属于一种光伏镀膜设备领域，包括镀膜室、多个炉膛和多个等离子体发生器，镀膜室内设置有镀膜腔，多个炉膛安装在镀膜室上，多个炉膛的一端伸入镀膜腔内，多个炉膛沿竖直方向间隔排布，炉膛用于加热靶材，多个等离子体发生器安装在镀膜室上，多个等离子体发生器沿竖直方向间隔排布，多个等离子体发生器与多个炉膛一一对应设置，等离子体发生器用于向镀膜腔内发射等离子束。本实用新型的RPD镀膜设备，由卧式自下向上镀膜改为立式镀膜，可以有效减少粉尘堆积情况和延长开腔清洁时间，多个炉膛沿竖直方向间隔设置，多个等离子体发生器沿竖直方向间隔设置，能够增加镀膜幅宽，满足量产化设备的产能和节拍。

今年以来捷佳伟创新获得专利授权29个，较去年同期增加了52.63%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了2.91亿元，同比增34.78%。

数据来源：天眼查APP

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