中微公司获得发明专利授权：“半导体零部件、等离子体反应装置和涂层形成方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“半导体零部件、等离子体反应装置和涂层形成方法”，专利申请号为CN202010777454.5，授权日为2025年3月28日。

专利摘要：本发明涉及半导体加工技术领域，具体公开了一种半导体零部件，包括零部件本体，零部件本体表面具有耐等离子体涂层，耐等离子体涂层包括至少两种稀土金属元素的氧化物、氧氟化物或氟化物中的一种或多种，其中一种稀土元素为铈元素，铈元素使氧空位的活性较高，活性较高的氧空位能够分解等离子体环境中的碳氟聚合物。由于铈元素具有化学价态可调的性质，并且在等离子体反应装置中的工作环境下，具有易释放晶格氧和恢复晶格氧的特点，因此在刻蚀过程中能够将碳氟聚合物分解为气体，将等离子体作用下生成的氟化物还原为氧化物，进而防止碳氟聚合物和氟化物以颗粒的形式脱落，避免反应腔内环境污染。

今年以来中微公司新获得专利授权38个，较去年同期增加了8.57%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了5.68亿元，同比增94.58%。

数据来源：天眼查APP

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