英思特获得发明专利授权：“一种提高钕铁硼基材上电镀铜层致密性的方法”_股票频道

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示英思特（301622）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种提高钕铁硼基材上电镀铜层致密性的方法”，专利申请号为CN202411667488.3，授权日为2025年3月18日。

专利摘要：本发明公开一种提高钕铁硼基材上电镀铜层致密性的方法，涉及表面处理技术领域，在钕铁硼基材上电镀铜时，镀铜溶液中加入添加剂，添加剂为3?吡啶甲酸及3?吡啶甲酰铵和盐酸吡啶的混合物，3?吡啶甲酸及3?吡啶甲酰铵的混合物与盐酸吡啶的质量比在1:10到10:1之间，其中3?吡啶甲酸及3?吡啶甲酰铵的混合物的浓度在1?20g/L。本发明的添加剂促进金属离子在基材表面的均匀沉积，能够使得钕铁硼磁体在电镀时减少高低电流区的厚度差异，因此提高了铜层厚度分布的均匀性，从而提高电镀铜层整体的致密性，进而改善了铜层的抗腐蚀性能力。

今年以来英思特新获得专利授权16个。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了2998.55万元，同比减nan%。