证券之星消息，根据天眼查APP数据显示安集科技（688019）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种适用于去除正负光刻胶的清洗液”，专利申请号为CN201910938660.7，授权日为2025年3月14日。
专利摘要：本发明提供了一种用于去除光刻胶残留物的清洗液，含有季胺氢氧化物、醇胺、醇类溶剂、硅烷、肼及其衍生物、水，余量为有机溶剂。该清洗液在有效去除晶圆上的光刻胶残留物的同时，对于基材如金属铝、铜等基本无腐蚀，在半导体晶片清洗等领域具有良好的应用前景。
今年以来安集科技新获得专利授权2个，较去年同期增加了100%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了1.45亿元，同比增42.72%。
数据来源：天眼查APP
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