兴福电子获得发明专利授权：“一种TiN和Ti金属薄膜蚀刻液及其制备方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示兴福电子（688545）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种TiN和Ti金属薄膜蚀刻液及其制备方法”，专利申请号为CN202211670386.8，授权日为2025年2月25日。

专利摘要：本发明具体涉及一种TiN和Ti金属薄膜蚀刻液及其制备方法。所述的蚀刻液的组成主要包括氧化剂、稳定剂、铵盐、助氧剂、表面活性剂和醋酸。该蚀刻液利用氧化剂将TiN和Ti氧化形成氧化物而被蚀刻；铵盐作为缓蚀剂可以与金属离子进行络合；无机酸或有机酸作为次氧化剂，既增加氧化剂的氧化性又提供了足够的氢离子，使氧化剂的浓度维持在较高的水平，维持蚀刻速率稳定，延长蚀刻液的使用/储存寿命；表面活性剂可以降低溶液表面张力，促进TiN和Ti的蚀刻均匀性和完整性。按照本发明的方法使用该蚀刻液能够保证TiN金属薄膜和Ti金属薄膜的蚀刻速率基本一致（二者蚀刻速率差值≤17 ?/min）。

今年以来兴福电子新获得专利授权6个。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了2824.56万元，同比减nan%。

数据来源：天眼查APP

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