晶盛机电获得发明专利授权：“一种晶片边缘抛光装置和抛光方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶盛机电（300316）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种晶片边缘抛光装置和抛光方法”，专利申请号为CN202110148553.1，授权日为2025年2月18日。

专利摘要：本发明属于晶片抛光设备领域，具体涉及一种晶片边缘抛光装置和抛光方法。包括晶片固定翻转组件，晶片固定翻转组件包括推进直线模组和机座，从动支撑座设于机座旁侧，从动支撑座上也设有能摆动的支撑臂，支撑臂与摆臂分设于晶片旋转组件两侧用于支撑晶片旋转组件；晶片设于晶片旋转组件上；抛头驱动组件包括基座，直线轴承安装板安装在基座上，直线轴承安装板上设有多个直线轴承，每个直线轴承内设有一根导向轴，导向轴的上端与上连接板固定，下端与下安装板固定；抛头组件通过轴设于下安装板下方。本发明防止了抛光液的到处飞溅，而且大大降低了抛光液的损耗量，最关键的是不会在晶片表面残留有抛光液，解决了晶片表面产生吸附痕迹的问题。

今年以来晶盛机电新获得专利授权19个，较去年同期减少了40.62%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了6.11亿元，同比增1.92%。

数据来源：天眼查APP

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