证券之星消息，根据天眼查APP数据显示鼎泰高科（301377）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种真空腔体碳膜清洁方法”，专利申请号为CN202211316341.0，授权日为2025年2月11日。
专利摘要：本发明公开了一种真空腔体碳膜清洁方法，适应于等离子镀膜装置中管道内壁碳膜的去除，所述等离子镀膜装置包括靶材、管道、磁场控制系统、引弧机构和直流弧电源，所述管道呈中空结构，所述磁场控制系统设置在所述管道外侧，包括步骤：(1)将所述直流弧电源的正极与所述管道电连接，所述直流弧电源的负极与所述靶材电连接；(2)利用所述直流弧电源和所述引弧机构在所述靶材表面起弧，在所述管道内产生等离子体；(3)采用所述磁场控制系统控制等离子体轰击管道内壁，以去除管道内壁的碳膜。该方法效率高、环保、便捷、成本低。
今年以来鼎泰高科新获得专利授权1个，与去年同期持平。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了5557.57万元，同比增20.95%。
数据来源：天眼查APP
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