亨通光电获得发明专利授权：“抽真空系统及等离子沉积设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示亨通光电（600487）新获得一项发明专利授权，专利名为“抽真空系统及等离子沉积设备”，专利申请号为CN202211374298.3，授权日为2025年2月11日。

专利摘要：本发明属于沉积设备技术领域，公开了抽真空系统及等离子沉积设备。该抽真空系统用于对反应室抽真空，反应室用于容纳未沉积物，该抽真空系统包括连接管、真空泵和清洁装置，连接管的一端与反应室连通，真空泵的抽气端与连接管的另一端连通，清洁装置与连接管的侧壁连通，清洁装置包括粉尘收集器，粉尘收集器设有真空内腔，粉尘收集器用于收集未沉积物。本发明提供的抽真空系统中的清洁装置利用真空内腔吸入留在连接管内的未沉积物，清洁装置能有效地清除留在抽真空系统内的未沉积物，防止由于未沉积物堆积堵塞真空泵而导致真空度不够的问题，该抽真空系统能使反应室内部持续保持真空状态，提高了生产效率，保证了产品的生产质量。

今年以来亨通光电新获得专利授权6个，较去年同期减少了25%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了11.47亿元，同比减0.17%。

数据来源：天眼查APP

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