奥比中光获得发明专利授权：“一种TOF深度测量装置及方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示奥比中光（688322）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种TOF深度测量装置及方法”，专利申请号为CN202010311679.1，授权日为2025年1月28日。

专利摘要：本发明公开了一种TOF深度测量装置，包括发射模组，用于向目标物体投射点阵图案；其中，所述点阵图案包括真实光斑形成的真实点阵以及虚拟光斑形成的虚拟点阵；采集模组，接收经目标物体反射回来的反射光信号；所述采集模组包括由像素阵列组成的图像传感器，其中，像素阵列的一部分像素用于检测真实光斑反射回的第一反射光信号，另一部分像素用于检测非真实光斑直接反射回的第二反射光信号；控制与处理器，分别与发射模组和采集模组连接，根据所述第二反射光信号对所述第一反射光信号进行滤除得到第三反射光信号，并基于第三反射光信号计算相位差得到目标物体的第一深度图。本发明在实现高分辨率深度图像的同时解决了反射光束多路径干扰的问题。

今年以来奥比中光新获得专利授权9个，较去年同期减少了10%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了1.06亿元，同比减37.03%。

数据来源：天眼查APP

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