奥普特获得发明专利授权：“一种神经辐射场的配准方法、系统及计算机程序产品”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示奥普特（688686）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种神经辐射场的配准方法、系统及计算机程序产品”，专利申请号为CN202411457760.5，授权日为2025年1月14日。

专利摘要：本发明涉及3D场景配准技术领域，公开了一种神经辐射场的配准方法、系统及计算机程序产品。所述配准方法包括：对点云进行分层下采样，并通过最近邻搜索的方式确定粗糙点对应的密集点，构建图像点云块；通过确定性投影函数为嵌入向量注入相应的颜色和密度信息；根据图像点云块和嵌入向量，利用边卷积函数计算获得NeRF模型的深度语义描述符；采用由粗糙到精细的匹配策略，对获得的待配准的两NeRF模型的深度语义描述符进行匹配。本发明提出了利用NeRF中的丰富跨模态特征来学习鲁棒的语义描述符，从而提取有效的NeRF对之间的点对应的算法框架。

今年以来奥普特新获得专利授权9个，较去年同期减少了18.18%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了1.1亿元，同比增5.28%。

数据来源：天眼查APP

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