京东方Ａ获得发明专利授权：“阵列基板及其制备方法、显示装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示京东方Ａ（000725）新获得一项发明专利授权，专利名为“阵列基板及其制备方法、显示装置”，专利申请号为CN202111176523.8，授权日为2025年1月10日。

专利摘要：本发明公开一种阵列基板及其制备方法、显示装置，制备方法包括：在基板上依次形成低温多晶硅有源层、栅绝缘层、栅极结构层和层间绝缘层，栅极结构层包括同层设置的栅极和栅线；在层间绝缘层远离基板的一侧依次形成第一半导体材料层和光阻图形，光阻图形与待形成的源极、漏极以及数据线相对应；对光阻图形以及第一半导体材料层进行刻蚀处理，形成源极、漏极和数据线；在源极、漏极和数据线远离基板的一侧形成依次形成平坦层、像素界定层和发光器件层；其中，栅线背向基板的一侧形成有凹槽，栅线在基板上的正投影和数据线在基板上正投影之间具有重合区域，重合区域位于凹槽在基板上的正投影区域内。

今年以来京东方Ａ新获得专利授权69个，较去年同期减少了18.82%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了58.06亿元，同比增10.24%。

数据来源：天眼查APP

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