TCL科技获得发明专利授权：“量子点材料及制备方法、量子点发光二极管及制备方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示TCL科技（000100）新获得一项发明专利授权，专利名为“量子点材料及制备方法、量子点发光二极管及制备方法”，专利申请号为CN202010591352.4，授权日为2025年1月7日。

专利摘要：本发明提供了一种量子点薄膜的制备方法，包括以下步骤：在惰性气氛下，提供化合物A的脂肪酸溶液和第一量子点的混合溶液体系，在第一加热条件下进行配体交换反应，制备表面结合有化合物A的第二量子点；其中，所述化合物A的结构通式如下，X1为与所述第一量子点结合的第一活性基团；R1为?(CH2)n?，R2为直链CmH2m+1，m、n为正整数，且n+m的取值范围为2～12；提供基板，在所述基板上沉积所述第二量子点制备量子点预制膜；在所述量子点预制膜上沉积含有酯水解催化剂的混合溶液，加热使至少处于量子点预制膜表面的化合物A发生酯水解反应生成第一配体，制备量子点薄膜。

今年以来TCL科技新获得专利授权1个，较去年同期减少了75%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了44.02亿元，同比减10.03%。

数据来源：天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理，由智能算法生成（网信算备310104345710301240019号），不构成投资建议。