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中微公司获得发明专利授权：“半导体零部件、等离子体处理装置及耐腐蚀涂层形成方法”

来源：证券之星企业动态 2025-01-08 02:20:10

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证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“半导体零部件、等离子体处理装置及耐腐蚀涂层形成方法”，专利申请号为CN202010765703.9，授权日为2025年1月7日。

专利摘要：一种半导体零部件、等离子体处理装置及耐腐蚀涂层形成方法，其中，所述半导体零部件包括：半导体零部件本体；耐腐蚀涂层，位于所述半导体零部件本体的表面，由稀土元素氟氧化物的结晶相和非晶相组成，且所述结晶相与非晶相位于同一层，非晶相弥散在结晶相中。所述半导体零部件应用在先进的制程中能够降低颗粒污染问题。

今年以来中微公司新获得专利授权10个。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了5.68亿元，同比增94.58%。

数据来源：天眼查APP

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