中微公司获得实用新型专利授权：“气相沉积设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“气相沉积设备”，专利申请号为CN202323478819.2，授权日为2025年1月7日。

专利摘要：本实用新型公开了一种气相沉积设备，包括：反应腔，设置在所述反应腔内部上侧的气体喷淋头，以及，与所述气体喷淋头相对设置的基座，所述基座的上表面用于承载基片，还包括：氨气裂解器，该氨气裂解器包括激光发射器和氨气输入管路，所述激光发射器设置在气体喷淋头的上方，所述氨气输入管路的出气段设置在气体喷淋头中；所述氨气输入管路将氨气传输到激光发射器发射的激光光路上，所述激光照射氨气促进氨气的裂解反应，氨气裂解产生的基团扩散至所述基片表面，在基片表面与反应气体发生沉积反应；本方案在较低的加热温度下依然有足够的氨气裂解基团与反应气体反应，降低了加热器的加热温度，减少了能耗。

今年以来中微公司新获得专利授权9个。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了5.68亿元，同比增94.58%。

数据来源：天眼查APP

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