证券之星消息,根据天眼查APP数据显示上海贝岭(600171)新获得一项发明专利授权,专利名为“隔离结构、数字隔离器及隔离结构的制造方法”,专利申请号为CN202011553989.0,授权日为2024年12月27日。
专利摘要:本发明公开了一种隔离结构、数字隔离器及隔离结构的制造方法,隔离结构包括第一绝缘介质层、第二绝缘介质层及连接体,连接体包括:第一金属板、第二金属板、连接对应设置的第一金属板及第二金属板的连接导体,第一顶层金属板与对应的第一绝缘介质层以及对应的第一金属板形成第一电容结构,第二顶层金属板与对应的第二绝缘介质层以及对应的第二金属板形成第二电容结构。本发明无需对芯片本身的结构进行改造,可以形成第一电容结构及第二电容结构,形成了一种新的形式的数字隔离器的隔离结构,从而可以在实现隔离高压的同时,使发送芯片与接收芯片之间的信号传输顺利进行。
今年以来上海贝岭新获得专利授权22个,较去年同期减少了42.11%。结合公司2024年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了1.77亿元,同比增10.21%。
数据来源:天眼查APP
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