中国广核获得发明专利授权：“一种抗辐照薄膜材料及其制备方法”_股票频道

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中国广核（003816）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种抗辐照薄膜材料及其制备方法”，专利申请号为CN202211252988.1，授权日为2024年12月24日。

专利摘要：本发明公开了一种抗辐照薄膜材料的制备方法，包括如下步骤：先采用电子束蒸发镀膜的方式将钨沉积在基材上形成基膜；再采用磁控溅射镀膜的方式在基膜上再次沉积钨材形成钨膜；将具有钨膜和基膜的膜材在400?500℃下烧结后，得到所述抗辐照薄膜材料。本发明的抗辐照薄膜材料的制备方法，以硅为基底，通过电子束蒸发镀膜、磁控溅射、烧结、退火处理等步骤，最终得到以硅为基底的薄膜材料，薄膜中出现新α相(衍射峰α(200)，α(211)，α(220))，且β相衍射峰未消失，因此存在共存相α和β，即其具有较优异的电学性能和优异的机械性能。

今年以来中国广核新获得专利授权476个，较去年同期减少了37.12%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了3.12亿元，同比减53.92%。