中微公司获得发明专利授权：“一种无晶圆等离子腔室的清洗方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种无晶圆等离子腔室的清洗方法”，专利申请号为CN202110478675.7，授权日为2024年12月6日。

专利摘要：本发明公开了一种无晶圆等离子腔室的清洗方法，其包含执行预定次数的循环，该循环包含以下步骤：氧清洗：在第一功率下，向等离子腔室内通入O2，以清除腔室内沉积的有机聚合物杂质；氟清洗：在第二功率下，向等离子腔室内通入O2及含氟气体，以清除腔室内沉积的无机或金属残余物；在第一功率下，向等离子腔室内通入O2，以清除氟清洗带来的含氟残留物，实现等离子腔室清洁环境的一致性；其中，第二功率小于第一功率。本发明将含氟的等离子体清洗引入到无晶圆状态下的干清洗过程中，采用大气体流量低功率的含氟气体的等离子体和O2等离子体循环清理，可对有机、无机残留物同时清理，避免对ESC造成损伤，适用于无晶圆等离子腔室的干清洗。

今年以来中微公司新获得专利授权103个，较去年同期减少了29.45%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了5.68亿元，同比增94.58%。

数据来源：天眼查APP

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