证券之星消息,根据天眼查APP数据显示世华科技(688093)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种高精度图形化涂布有机硅保护膜及其制备方法”,专利申请号为CN202211352787.9,授权日为2024年12月6日。
专利摘要:本发明公开了一种高精度图形化涂布有机硅保护膜及其制备方法,其包括有机硅压敏胶层、承印基材,所述有机硅压敏胶层图形化印刷到承印基材上,所述承印基材分为相连的对应屏幕部分和提手部分;所述有机硅压敏胶层覆盖所述承印基材的对应屏幕部分,所述承印基材的提手部分为无胶区;所述有机硅压敏胶层的边缘区域直线度公差<1mm。通过一步工艺构建图形化的有胶/无胶区域,省去双面胶涂布及复合工艺制程。同时,本申请提供了承印基材为纸张基材的技术方案,与现有技术相比,不再使用塑化的基材和无胶支撑薄膜,实现了有机硅保护膜的完全去塑化。
今年以来世华科技新获得专利授权14个,较去年同期增加了40%。结合公司2024年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了2356.76万元,同比增44.27%。
数据来源:天眼查APP
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