万华化学获得发明专利授权：“一种基于固态电解质的氧离子源、离子注入机及其在制备SOI晶片中的应用”_股票频道

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示万华化学（600309）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种基于固态电解质的氧离子源、离子注入机及其在制备SOI晶片中的应用”，专利申请号为CN202110059971.3，授权日为2024年12月3日。

专利摘要：本发明公开了一种基于固态电解质的氧离子源、离子注入机及其在制备SOI晶片中的应用，所述固态电解质材料采用三价稀土元素掺杂的氧化锆或者氧化铈粉体通过注塑成型的方式加工而成，基于所述固态电解质的氧离子源在吸出电极处即可获得高纯度的负氧离子束。基于本发明离子源的离子注入机无需磁分析器对引出离子进一步筛选，可以摆脱磁分析器的使用限制，使得整个离子注入机在设计上得到极大地简化，能耗大大地降低。

今年以来万华化学新获得专利授权551个，较去年同期减少了63.96%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了20.81亿元，同比增16.18%。