晶合集成获得实用新型专利授权：“一种检测离子源头是否泄漏的装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种检测离子源头是否泄漏的装置”，专利申请号为CN202323667334.8，授权日为2024年11月22日。

专利摘要：本实用新型提供了一种检测离子源头是否泄漏的装置，离子源头包括一个台阶面，装置包括真空测漏仪、第一连接管和检测腔体；检测腔体具有一腔室，腔室的一端贯穿检测腔体的上端面，另一端位于检测腔体的内部；第一连接管的一端与真空测漏仪连通，另一端与腔室连通；台阶面与检测腔体的上端面相贴合；离子源头的一端位于腔室外，另一端位于腔室内。通过真空测漏仪和检测腔体对组成完成后的离子源头进行泄漏检测，当离子源头不泄漏时，再把离子源头安装到离子注入机中；当离子源头泄漏时，重新组装离子源头后再进行泄漏检测，直至离子源头不泄漏时，才将离子源头安装到离子注入机中，这样可以缩短设备维护的时间，延长干泵的使用寿命。

今年以来晶合集成新获得专利授权239个，较去年同期增加了17.16%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了6.14亿元，同比增22.27%。

数据来源：天眼查APP

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