证券之星消息，根据天眼查APP数据显示上海新阳（300236）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种193nm干法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用”，专利申请号为CN202111395632.9，授权日为2024年11月19日。
专利摘要：本发明公开了一种193nm干法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用。具体公开了一种如式I所示的添加剂在光刻胶中的应用；所述光刻胶包括如下原料：如式I所示的添加剂、如式(L)所示的树脂、光致产酸剂和溶剂，所述添加剂的重均分子量为1000～3000；所述添加剂的重均分子量/数均分子量比值为1～5。本发明的应用可以使光刻胶形成具有优异敏感性和高分辨率的光刻胶膜微图案。
今年以来上海新阳新获得专利授权38个，较去年同期增加了5.56%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了9709.66万元，同比增51.71%。
数据来源：天眼查APP
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