证券之星消息,根据天眼查APP数据显示拉普拉斯(688726)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“炉管组件以及反应炉”,专利申请号为CN202323670304.2,授权日为2024年11月15日。
专利摘要:本申请提供了一种炉管组件以及反应炉,涉及半导体或光伏材料加工领域,解决了待加工材料表面生成的沉积薄膜的一致性较差的技术问题。该炉管组件应用于反应炉,反应炉包括加热腔体,炉管组件设置于加热腔体内,其中,炉管组件包括:内炉管,内炉管包括相邻的匀流腔和反应腔,匀流腔具有多个进气孔,多个进气孔被配置为向匀流腔通入工艺气体,匀流腔与反应腔之间具有第一气孔,第一气孔连通匀流腔与反应腔,以供匀流腔内的气体进入反应腔。由于工艺气体通过第一气孔的速度较慢,从而使工艺气体可以先在匀流腔内充分均匀,再通过第一气孔流入反应腔,提升了工艺气体的混合均匀度,从而能够提高待加工材料表面生成的沉积薄膜的一致性。
今年以来拉普拉斯新获得专利授权18个。结合公司2024年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了1.73亿元,同比增57.18%。
数据来源:天眼查APP
以上内容为证券之星据公开信息整理,由智能算法生成,不构成投资建议。