鸿远电子获得实用新型专利授权：“一种提高MLCC叠层错位精度的识别结构”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示鸿远电子（603267）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种提高MLCC叠层错位精度的识别结构”，专利申请号为CN202323501927.7，授权日为2024年11月8日。

专利摘要：本实用新型公开了一种提高MLCC叠层错位精度的识别结构，属于电容器技术领域，其技术要点是：所述识别结构设置在电极膜片一侧，所述识别结构关于所述电极膜片对称设置，电极膜片设置在承载机构的一侧，承载机构用于带动所述电极膜片的识别结构移动，电极膜片另一侧设置有两台CCD相机，CCD相机用于定位电极膜片两侧的识别结构；还应包括搬送机构和积层平台，所述搬送机构在所述承载机构和积层平台之间移动，搬送机构在所述承载机构上抓取电极膜片或陶瓷膜片，搬送机构在所述积层平台上堆叠电极膜片或陶瓷膜片，且搬送机构每次抓取电极膜片和堆叠电极膜片的位置固定不变，可以避免搬送机构移动精度造成的影响，从而提高叠层错位精度的优点。

今年以来鸿远电子新获得专利授权16个，较去年同期减少了44.83%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了5069.26万元，同比增7.63%。

数据来源：天眼查APP

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