证券之星消息,根据天眼查APP数据显示国星光电(002449)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种半导体器件气密性的检测方法”,专利申请号为CN202111368064.3,授权日为2024年11月8日。
专利摘要:本发明涉及一种半导体器件气密性的检测方法,所述检测方法包括如下步骤:将半导体器件置于红外光激发的上转换材料染色溶液中,在真空或高压环境中静置后再恢复常压,利用波长范围为700?1200nm红外激发光源照射半导体器件,完成半导体器件气密性的检测。本发明所述检测方法能方便无干扰地分辨半导体器件的空洞存在的位置和深度,气密性检测效率高。
今年以来国星光电新获得专利授权58个,较去年同期增加了20.83%。结合公司2024年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了9308.86万元,同比增16.26%。
数据来源:天眼查APP
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