迈为股份获得实用新型专利授权：“大面积等离子体放电结构及真空镀膜设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示迈为股份（300751）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“大面积等离子体放电结构及真空镀膜设备”，专利申请号为CN202323017426.1，授权日为2024年9月17日。

专利摘要：本申请涉及一种大面积等离子体放电结构及真空镀膜设备。大面积等离子体放电结构包括上电极模组和下电极模组，上电极模组与下电极模组间形成有镀膜电场，上电极模组包括背板、喷淋头及介质板，背板连接射频电源及用于通入工艺气体；喷淋头安装于所述背板，其背离背板的一侧具有凹陷部；介质板与喷淋头可拆卸连接，介质板靠近喷淋头的一侧朝向凹陷部，介质板的数量为多个，多个介质板相搭接构成整个上电极模组的下表面。通过上述设置，介质板与喷淋头之间形成中间空间大、边缘空间小的真空放电区域，削弱射频源中电信号横向的驻波效应的影响，保证阴极模组与阳极模组之间形成的镀膜电场的均匀性，提升镀膜过程中膜层的均匀性。

今年以来迈为股份新获得专利授权71个，较去年同期增加了44.9%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了4.19亿元，同比增47.24%。

数据来源：天眼查APP

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