证券之星消息,根据天眼查APP数据显示中微公司(688012)新获得一项发明专利授权,专利名为“刻蚀方法”,专利申请号为CN201911358929.0,授权日为2024年9月10日。
专利摘要:本发明提供了一种刻蚀方法,所述刻蚀方法包括:提供一待刻蚀对象,所述待刻蚀对象包括:基底、覆盖在所述基底表面的底部抗反射涂层以及设置在部分所述底部抗反射涂层表面的图形化的光刻胶层;以所述光刻胶层为掩膜,在预设气体源下产生等离子体,对所述底部抗反射涂层进行等离子体刻蚀,去除所述基底表面未被所述光刻胶层覆盖的所述底部抗反射涂层;其中,在等离子体对所述底部抗反射涂层的刻蚀过程中,所述气体源形成的等离子体能够在所述光刻胶层表面形成聚合物保护层,且能够刻蚀去除所述底部抗反射涂层未被所述光刻胶层覆盖的部分。应用本发明实施例提供的刻蚀方法,提高了底部抗反射涂层与光刻胶层的选择比。
今年以来中微公司新获得专利授权92个,较去年同期增加了4.55%。结合公司2024年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了5.68亿元,同比增94.58%。
数据来源:天眼查APP
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