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龙图光罩获得发明专利授权:“掩模版位置精度测量方法、装置、设备、介质以及产品”

来源:证券之星企业动态 2024-09-04 02:30:52
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证券之星消息,根据天眼查APP数据显示龙图光罩(688721)新获得一项发明专利授权,专利名为“掩模版位置精度测量方法、装置、设备、介质以及产品”,专利申请号为CN202410841312.9,授权日为2024年9月3日。

专利摘要:本申请公开了一种掩模版位置精度测量方法、装置、设备、介质以及产品,涉及半导体技术领域,方法包括:接收掩模版位置精度测量请求;根据所述掩模版位置精度测量请求,通过预先构建的位置精度测量系统对待测量掩模版进行测量,得到测量结果,其中,所述位置精度测量系统基于预设的温度监控平台、定位测量平台以及位置数据最大后验概率MAP构建得到。由此,将接收到的掩模版位置精度测量请求发送到由温度监控平台、定位测量平台以及最大后验概率MAP构建得到的位置精度测量系统进行测量,得到测量结果,提高制版位置的精度以及降低制造过程中多种因素导致的异常影响,提高了掩模版位置精度测量的准确性。

今年以来龙图光罩新获得专利授权6个。结合公司2024年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了1070.02万元,同比增17.2%。

数据来源:天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理,由智能算法生成,不构成投资建议。

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