捷佳伟创获得发明专利授权：“靶材供料设备与真空镀膜设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示捷佳伟创（300724）新获得一项发明专利授权，专利名为“靶材供料设备与真空镀膜设备”，专利申请号为CN202011387415.0，授权日为2024年8月20日。

专利摘要：本发明公开了一种靶材供料设备与真空镀膜设备，靶材供料设备中，第一密封模组用于打开或者切断第一存储模与外界的连通；第二密封模组用于于打开或者切断第一存储模组与第二存储模组的连通；第一上料模组用于在第二密封模组处于切断状态时将靶材送入第一存储模组；第二上料模组用于在第一密封模组处于切断状态，且第二密封模组处于打开状态时，将所述第一存储模组中的靶材移送至第二存储模组；第三上料模组用于将第二存储模组上的靶材移送至设定位置。本发明实施例的靶材供料设备可以实现对不间断供料，保证工艺的持续进行。同时，第二容器可以始终保持与外界的隔离，避免破坏反应位置的真空状态。

今年以来捷佳伟创新获得专利授权47个，较去年同期增加了38.24%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了4.67亿元，同比增63.46%。

数据来源：天眼查APP

以上内容由证券之星根据公开信息整理，由算法生成（网信算备310104345710301240019号），与本站立场无关，如数据存在问题请联系我们。本文为数据整理，不对您构成任何投资建议，投资有风险，请谨慎决策。