拓荆科技获得发明专利授权：“一种用于薄膜沉积设备的密封结构以及反应腔室”_股票频道

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拓荆科技（688072）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种用于薄膜沉积设备的密封结构以及反应腔室”，专利申请号为CN202211241484.X，授权日为2024年8月16日。

专利摘要：本发明提供了一种用于薄膜沉积设备的密封结构以及反应腔室。所述密封结构位于所述薄膜沉积设备的反应腔室的腔体的朝向上盖板方向的一表面上，所述密封结构包括：密封槽，开设于所述表面上；密封圈，位于所述密封槽中；通气结构，开设于该密封槽的内侧槽壁上，所述内侧槽壁为离反应腔最近的槽壁，所述通气结构被设置成当所述密封圈受压差影响紧贴所述密封槽的内侧槽壁时不会形成死区。

今年以来拓荆科技新获得专利授权21个，较去年同期减少了58.82%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了5.76亿元，同比增52.07%。

数据来源：天眼查APP

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