银河微电获得实用新型专利授权：“半导体清洗循环系统”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示银河微电（688689）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“半导体清洗循环系统”，专利申请号为CN202322995393.1，授权日为2024年8月16日。

专利摘要：本实用新型公开了半导体清洗循环系统，包括底座，所述底座的顶部固定安装有安装箱，所述安装箱的顶部固定安装有一槽箱本体，所述一槽箱本体内部的一侧固定安装有一槽箱液位检测仪，所述一槽箱本体的顶部固定安装有一槽箱边防溢板。本实用新型通过在二槽箱本体的顶部皆固定安装有二槽箱侧防溢板，能够通过三槽箱本体内部的清洗液溢流循环到二槽箱本体内，接着利用三槽箱阻水板进行阻隔水流溢入，然后利用二槽箱本体将清洗液溢流到一槽箱本体内，接着利用二槽箱阻水板进行阻隔水流溢入，能够对半导体进行循环流动清洗，从而提升了对半导体的清洗质量，利用溢流的方式降低了对半导体的清洗成本。

今年以来银河微电新获得专利授权19个，较去年同期增加了375%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了4211.74万元，同比减10.78%。

数据来源：天眼查APP

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