上海新阳获得发明专利授权：“离子注入光刻胶清洗液、其制备方法及应用”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示上海新阳（300236）新获得一项发明专利授权，专利名为“离子注入光刻胶清洗液、其制备方法及应用”，专利申请号为CN202010210625.6，授权日为2024年8月9日。

专利摘要：本发明公开了一种离子注入光刻胶清洗液、其制备方法及应用。该离子注入光刻胶清洗液，其由下述原料制得，所述的原料包括以下质量分数的组分：0.5％?15％的氧化剂、10％?40％的有机碱、0.005％?6％的螯合剂、0.005％?6％的缓蚀剂、0.1％?10％的羧酸铵、0.005％?1.5％的表面活性剂、0.005％?5％的有机硅、0.005％?2.5％的聚季铵盐和余量的水，所述的质量分数为各组分质量占原料的总质量的百分比；其中，所述的表面活性剂为EO?PO聚合物L62；所述的有机硅为巯丙基三甲氧基硅烷；所述的聚季铵盐为聚季铵盐?16。本发明的离子注入光刻胶清洗液对多种金属和电介质缓蚀性强，清洗效果佳。

今年以来上海新阳新获得专利授权35个，较去年同期增加了45.83%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了1.49亿元，同比增20.05%。

数据来源：天眼查APP

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