广联达获得发明专利授权：“约束边缘非阴影区构件构造方法、装置、设备和存储介质”

证券之星消息，根据企查查数据显示广联达（002410）新获得一项发明专利授权，专利名为“约束边缘非阴影区构件构造方法、装置、设备和存储介质”，专利申请号为CN202210555067.6，授权日为2024年8月6日。

专利摘要：本发明公开了一种约束边缘非阴影区构件构造方法、装置、设备和存储介质，该方法包括：获取约束边缘非阴影区构件所需附着的组合构件，其中，组合构件包含墙体构件和约束边缘阴影区构件；响应于约束边缘非阴影区构件的创建指令，根据需求在预设的属性面板中输入约束边缘非阴影区构件的长度属性参数；确定墙体构件中的插入点，根据插入点与约束边缘阴影区构件的相对位置确定约束边缘非阴影区构件附着的目标约束边缘阴影区构件，根据插入点与目标约束边缘阴影区构件的相对位置确定约束边缘非阴影区构件的插入方向；通过长度属性参数、插入方向和目标约束边缘阴影区构件构造约束边缘非阴影区构件。

今年以来广联达新获得专利授权125个，较去年同期增加了150%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了18.95亿元，同比增25.04%。

数据来源：企查查

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