证券之星消息,根据企查查数据显示横店东磁(002056)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“一种槽式硅片烘干装置”,专利申请号为CN202323049852.3,授权日为2024年7月30日。
专利摘要:本实用新型公开了属于硅片烘干技术领域的一种槽式硅片烘干装置,包括烘干槽,烘干槽的内部设有内槽,内槽与烘干槽之间设有空气流道,烘干槽的底部连接有电机,电机的输出端上连接有位于空气流道内部的叶轮,内槽的底部设有密集的通气孔,空气流道的内部设有两根位于内槽两侧的电加热棒,烘干槽的上端设有若干个排气孔,烘干槽的上方铰接有槽盖,槽盖的底面上连接有风管,风管上设有密集的吹气孔。本实用新型在槽盖的底面上设置了风管,风管与氮气气源连接,通过吹气孔向下垂直吹风,增加了内部的空气循环,从而可以避免清洗液残留在花篮上,提高硅片的良品率。
今年以来横店东磁新获得专利授权64个,较去年同期减少了58.97%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面投入了8.77亿元,同比减6.64%。
数据来源:企查查
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