横店东磁获得实用新型专利授权：“一种槽式硅片烘干装置”

证券之星消息，根据企查查数据显示横店东磁（002056）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种槽式硅片烘干装置”，专利申请号为CN202323049852.3，授权日为2024年7月30日。

专利摘要：本实用新型公开了属于硅片烘干技术领域的一种槽式硅片烘干装置，包括烘干槽，烘干槽的内部设有内槽，内槽与烘干槽之间设有空气流道，烘干槽的底部连接有电机，电机的输出端上连接有位于空气流道内部的叶轮，内槽的底部设有密集的通气孔，空气流道的内部设有两根位于内槽两侧的电加热棒，烘干槽的上端设有若干个排气孔，烘干槽的上方铰接有槽盖，槽盖的底面上连接有风管，风管上设有密集的吹气孔。本实用新型在槽盖的底面上设置了风管，风管与氮气气源连接，通过吹气孔向下垂直吹风，增加了内部的空气循环，从而可以避免清洗液残留在花篮上，提高硅片的良品率。

今年以来横店东磁新获得专利授权64个，较去年同期减少了58.97%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了8.77亿元，同比减6.64%。

数据来源：企查查

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