高华科技获得发明专利授权：“一种压力传感器及其制备方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示高华科技（688539）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种压力传感器及其制备方法”，专利申请号为CN202210892300.X，授权日为2024年7月23日。

专利摘要：本发明提供一种压力传感器及其制备方法，压力传感器的制备方法，包括如下步骤：步骤S100，对硅衬底的第一侧表面蚀刻并形成限位平台，所述限位平台的顶面与所述硅衬底的第一侧表面之间具有间隙；步骤S200，在所述硅衬底的第一侧沉积牺牲层，通过所述牺牲层在所述硅衬底的第一侧制作结构层，并在所述结构层上设置压敏电阻；步骤S300，对所述结构层进行蚀刻，以在结构层的底层薄膜上间隔形成多个支撑部，所述底层薄膜和多个所述支撑部共同构成梁膜结构；其中，所述底层薄膜的底面与所述限位平台的顶面之间形成预设预设距离。本发明的一个技术效果在于，设计合理，不仅能够发挥较好的抗过载作用，而且能够大大提高压力传感器的灵敏度。

今年以来高华科技新获得专利授权14个，较去年同期增加了250%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了4973.89万元，同比增38.03%。

数据来源：企查查

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