捷佳伟创获得实用新型专利授权：“一种用于真空镀膜的靶材缓存装置”

证券之星消息，根据企查查数据显示捷佳伟创（300724）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种用于真空镀膜的靶材缓存装置”，专利申请号为CN202323257810.9，授权日为2024年7月19日。

专利摘要：本实用新型公开了一种用于真空镀膜的靶材缓存装置，包括：靶材通道，用于输送靶材，靶材通道的侧壁开设有至少一个连通孔；固定基座，位于靶材通道的一侧；至少一组挤压组件，挤压组件包括挤压件和弹性驱动机构，弹性驱动机构设置于固定基座，挤压件与弹性驱动机构传动连接；其中，弹性驱动机构能够驱动挤压件靠近靶材通道，并使得至少部分挤压件穿过连通孔并嵌入靶材通道内部。需要时，靶材缓存装置能够通过挤压组件的挤压件将靶材挤压缓存于靶材通道，以便于靶材供给系统后续将缓存的靶材往真空镀膜反应腔室内推送，降低了工人补充添加新的靶材的频率，不但可以降低工人更换补充靶材的工作强度，同时有助于降低企业的生产成本。

今年以来捷佳伟创新获得专利授权43个，较去年同期增加了72%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了4.67亿元，同比增63.46%。

数据来源：企查查

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