证券之星消息，根据企查查数据显示光华科技（002741）新获得一项发明专利授权，专利名为“蚀刻液及其制备方法与应用”，专利申请号为CN202210568533.4，授权日为2024年7月16日。
专利摘要：本发明提供了一种蚀刻液，蚀刻液包括如下组分：无机酸、氧化剂、铜缓蚀剂、助溶剂与水；其中，所述铜缓蚀剂包括含有苯磺酰胺基团的化合物与有机羧酸的混合物；所述有机羧酸的分子式为R?COOH，R为具有2至5个C原子并且被2至4个羟基取代的烃基。该蚀刻液高效、性能稳定且反应条件温和，对铜腐蚀作用小，并且环保。
今年以来光华科技新获得专利授权5个，较去年同期增加了25%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了1.34亿元，同比减8.99%。
数据来源：企查查
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