拓荆科技获得发明专利授权：“反应腔内等离子体特性的检测系统、检测方法及存储介质”

证券之星消息，根据企查查数据显示拓荆科技（688072）新获得一项发明专利授权，专利名为“反应腔内等离子体特性的检测系统、检测方法及存储介质”，专利申请号为CN202311184110.3，授权日为2024年7月16日。

专利摘要：本发明提供了一种反应腔内等离子体特性的检测系统、一种半导体器件的加工设备、一种反应腔内等离子体特性的检测方法，以及一种计算机可读存储介质。所述检测系统包括：至少两条采样通路，用于分别采集所述反应腔的顶盖的电压信号；电压处理模块，连接第二采样通路，将其电压信号移相180°，以获得第二电压信号，并将所述第二电压信号与第一采样通路上原始相位的第一电压信号相加，以获得滤除交流噪声的第三电压信号；以及检测模块，连接所述电压处理模块，以获取所述第三电压信号，并根据所述第三电压信号，确定所述反应腔内的等离子体特性。本发明可以滤除反应腔顶盖电压中的交流噪声，以提升等离子体特性检测结果的准确性。

今年以来拓荆科技新获得专利授权15个，较去年同期减少了63.41%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了5.76亿元，同比增52.07%。

数据来源：企查查

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