拓荆科技获得发明专利授权：“一种半导体设备及其气体输送结构”

证券之星消息，根据企查查数据显示拓荆科技（688072）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种半导体设备及其气体输送结构”，专利申请号为CN202111523560.1，授权日为2024年7月9日。

专利摘要：本发明公开一种半导体设备及其气体输送结构，气体输送结构包括主线管路和与所述主线管路连通的至少两个支线管路，所述主线管路用于与清洗气源连接，所述支线管路用于与反应站连接，所述支线管路包括与所述主线管路连通的第一部件和与所述第一部件连接的第二部件，所述第一部件具有第一通道，所述第二部件具有与所述第一通道连通的第二通道，所述第一部件与所述第二部件之间形成有与所述第一通道分隔的环形腔，所述第二部件还具有导流孔，所述导流孔连通所述环形腔与所述第二通道靠近所述反应站的一端；所述第二部件具有与所述环形腔连通的进气口，所述进气口用于连接反应气源。该结构设计能够改善反应气体的窜流问题，有利于提高晶圆的加工质量。

今年以来拓荆科技新获得专利授权12个，较去年同期减少了70.73%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了5.76亿元，同比增52.07%。

数据来源：企查查

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