证券之星消息,根据企查查数据显示奥普特(688686)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“一种匀光装置及光源”,专利申请号为CN202322642106.9,授权日为2024年7月5日。
专利摘要:本实用新型公开了一种匀光装置及光源,匀光装置应用于发光体,包括沿所述发光体的出光方向依次设置的:第一匀光器件,包括多个独立控制的第一调光区域,所述第一调光区域以第一密度设置于所述第一匀光器件内;第二匀光器件,包括多个独立控制的第二调光区域,所述第二调光区域以第二密度设置于所述第二匀光器件内;控制器,连接于各所述第一调光区域和第二调光区域,用于调节各所述第一调光区域和第二调光区域的匀光参数。通过设置可分区的匀光器件,实现对发光体的光线调节,能够根据不同的使用场景提供合适的均匀光照,简化了光源的组装难度,提高了检测的准确度和效率。
今年以来奥普特新获得专利授权68个,较去年同期增加了21.43%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面投入了2.02亿元,同比增5.88%。
数据来源:企查查
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